xPro4C
PVD-Hartstoffbeschichtungsanlage mit HiPIMPS V+-Technologie und planaren Magnetrons
Das xPro4C Vakuumbeschichtungssystem ist mit planaren Magnetron-Sputterquellen ausgestattet und wurde speziell für die Abscheidung von leistungsstarken DLC-Beschichtungen, wie a-C, a-C:H, ta-C und a-C:Me entwickelt. Neben DLC-Beschichtungen können mit den xPro4C Systemen auch metallurgische Hochleistungsschichten wie z.B. AlCrSiN, AlTiSiN, AlCrN, AlTiN, CrN, TiC,N, TiN mit extrem glatten Oberflächen abgeschieden werden.
Die xPro4C Beschichtungsanlage ist aufgrund der herausragenden Leistung und Zuverlässigkeit das ideale System für industrielle Anwendungen – aufgrund ihrer hohen Flexibilität und der kompakten Bauform eignet sie sich aber auch hervorragend für den Einsatz in Forschung und Entwicklung.
Die Magnetron-Sputteranlage xPro4C wird charakterisiert durch:
- Robuste Konstruktion für den industriellen Einsatz, verbunden mit hochentwickelter Vakuumtechnologie.
- Wertbeständige Fertigungsausführung in Verbindung mit fortschrittlichstem Design.
- Höchste Zuverlässigkeit aufgrund von durchdachter Konstruktion und Ausführung.
- Das breiteste Spektrum an Hartstoffbeschichtungen und Beschichtungstechnologien zum günstigsten Preis.
- Vollautomatisiertes, rechnergestütztes Beschichtungssystem mit der Garantie für beste Prozessreproduzierbarkeit, Zuverlässigkeit und Benutzerfreundlichkeit.
- Das System mit breitester Anwendung auf kleinster Fläche.
Technische Highlights der xPro4C:
HiPIMS V+ ***-Technologie
- HiPIMS V+-Technologie für beste Schichteigenschaften
- Erhöhte Beschichtungrate im Vergleich zu normaler HiPIMS-Technologie.
- Optimierte Verteilung der Ionenenergie
- Reduziertes Magnetron-Arcing
DC-pulsed V+ Technologie zur Kohlenstoffabscheidung
- Hohe Härte der DLC-Schichten von bis zu 35 GPa.
- Exzellente Einstellbarkeit des sp³/sp²-Verhältnisses
Kurze Prozeßzeiten
- Hohe Heizleistung
- Effiziente Reinigungs- und Ätzschritte
Software Design
- Extrem intuitive, einfache Nutzung
- Gewährleistung höchster Reproduzierbarkeit
- Höchste Flexibilität für kundenspezifische Beschichtungslösungen
- Fernbedienung und -diagnostik
Intensives Thermomanagement
- Intensive Wasserkühlung
- Doppelwandige Kammerkonstruktion
Erstklassige Bauteile
- Verwendung von Bauteilen renommierter Hersteller
- Durchdachte Integration
System Daten
| Größe Vakuumkammer | 680 × 650 × 1.150 mm (L × B × H) |
| Beschichtbares Volumen | 350 × 700 mm (Ø × H) |
| Anzahl drehbarer Substratträger | 1 |
| Größe Dreheinrichtung Substratträger | 480 × 430 × 1.015 mm (L × B × H) |
| Pumpstand | 2 zweistufige Drehschieberpumpen 2 Turbomolekularpumpen |
| Verdampfer | 4 großflächige Magnetron-Sputterquellen |
| Stromversorgungen | 3 DC-pulsed Stromversorgungen zu 10 kW 1 HiPIMS Stromversorgungen zu 10 kW 1 HiPIMS Biasstromversorgung zu 10 kW |
| Heizung | 2 Heizpanele zu je 5 kW |
| Gesamtabmaße | 4.000 × 1.300 × 2.250 mm (L × B × H) |
| Stromanschluß | 75 kW, 400 V, 3 ph + N, 50/60 Hz |
Systemkapazität
| Plasmavolumen | 350 × 740 mm (Ø × H) |
| Schaftfräser Ø 4 × 50 mm | 1.340 St. |
| Schaftfräser Ø 12 × 75 mm | 480 St. |
| WSP ½″ x ½″ x 4 mm | 2.800 St. |
| Wälzfräser Ø 80 × 80 mm | 72 St. |
| Wälzfräser Ø 100 × 100 mm | 42 St. |
* PDA = Plasma-Diffused-Arc
** HiParc = High Power Pulsed Arc
*** HiPIMS V+ = High Power Impulse Magnetron Sputtering with positive reverse pulsing